Fotorresistencia
Una fotoprotección (también llamada resistencia) es un material sensible a la luz que se utiliza en varios procesos generales, como la fotolitografía y el fotograbado, para formar un revestimiento estampado en una superficie.
El proceso de resistencia es importante en la industria electrónica, como la placa de circuito impreso o la construcción de semiconductores (microelectrónica), la impresión de microcontactos y el estampado y grabado del sustrato.
fotoprotector positivo
La fotoprotección positiva es un tipo de fotoprotector en el que la parte del fotorresistente que se expone a la luz se vuelve soluble en el revelador de fotorresistente. Tanto en la industria de semiconductores como en la de PCB, la parte no expuesta de la fotoprotección siempre permanece insoluble para el revelador de la fotorresistencia. Fotoprotector positivo popular como:
- AZ4620
- AZ5214
- AZ1500
- Megaposito SPR 220-3.0
- Megaposito SPR 220-7.0
Más información sobre la fotoprotección
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Por qué elegir Venture Photoresist
Fotoprotector negativo
La fotorresistencia negativa es un tipo de fotoprotector en el que la porción del fotorresistente que se expone a la luz se vuelve insoluble para el revelador del fotorresistente. Tanto en la industria de semiconductores como en la de PCB, el revelador de fotorresistencia siempre disuelve la porción no expuesta de la fotoprotección. Fotoprotector negativo popular como:
- SPR955 0.9
- PMMA
- zep520A
- nLOF AZ 2020
- NR77-6000PY
Fabricante principal de fotoprotectores como Shipley, DOW (Dupont), Kayaku Materials, Zeon, AZ Electronics Materials, Futurrex, etc.
| MNF | Caracteristicas | Aplicaciones | Modelo |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo 6-20um | grabado seco/húmedo, enchapado | AZ4620 |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo 1.1-2um | Fotoprotector de inversión de imagen, grabado seco/húmedo | AZ5214 |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo 1-2um | grabado seco/húmedo, exposición de línea G | AZ1500 20cp |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo 500-800nm | grabado seco/húmedo, exposición de línea G | AZ1500 4.4cp |
| Materiales electrónicos AZ | 12um positivo | grabado seco/húmedo, enchapado | AZ 10XT 520cp (para reemplazar AZ9260 520cp) |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo | grabado seco/húmedo, enchapado | Arizona P4330 |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo | grabado seco/húmedo, enchapado | AZ 4562 |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo | grabado seco/húmedo | AZ MIR701 14CP |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo | grabado seco/húmedo | AZ MIR701 29CP |
| Materiales electrónicos AZ | Positivo | grabado seco/húmedo, enchapado | AZ40XT |
| DOW (Dupont) | Positivo | grabado seco/húmedo, enchapado | Megaposito SPR 220-7.0 |
| DOW (Dupont) | Positivo | Megaposito SPR 220-3.0 | |
| DOW (Dupont) | Positivo | grabado seco/húmedo, enchapado | SPR220 3.0-4.5 |
| DOW (Dupont) | Positivo | Serie Megaposit SPR 700 | |
| DOW (Dupont) | Positivo | Megaposito SPR 700-1.2 | |
| DOW (Dupont) | Positivo | Megaposito SPR 700-1.8 | |
| DOW (Dupont) | Positivo | SERIE Microposit S 1800 G2 | |
| DOW (Dupont) | Positivo | Microposito S 1818 G2 SP16 | |
| DOW (Dupont) | Positivo | Microposito S 1828 G2 | |
| DOW (Dupont) | Positivo | AR™10L-600 DUV antirreflectante | |
| Shipley | Positivo | grabado seco/húmedo, exposición de línea G | S1805 |
| S1813 | |||
| S1818 | |||
| Shipley | despegue, compatible con la serie BCI3511 o S1800 | LOL2000 | |
| Shipley | Positivo | grabado seco/húmedo, exposición I-line | SPR955 0.9 |
| Shipley | Positivo | Rayo de electrones | PMMA |
| Zeon | Positivo | Haz de electrones, 300-500nm | zep520A |
| Materiales avanzados de KAYAKU | PMGI SF 9 | ||
| Materiales avanzados de KAYAKU | PMGI SF 11 | ||
| Materiales avanzados de KAYAKU | Positivo | 495 PMMA A5 | |
| Materiales avanzados de KAYAKU | Positivo | 495PMMA C7 | |
| Materiales avanzados de KAYAKU | Positivo | 950PMMA C9 | |
| Materiales avanzados de KAYAKU | MMA (8.5) MAA EL 12 | ||
| Materiales avanzados de KAYAKU | PG EBR | ||
| Materiales electrónicos AZ | Negativo | despegue Resistencia a la temperatura 180°C | nLOF AZ 2020 |
| Materiales electrónicos AZ | Negativo | despegue Resistencia a la temperatura 180°C | nLOF AZ 2035 |
| Materiales electrónicos AZ | Negativo | despegue Resistencia a la temperatura 180°C | nLOF AZ 2070 |
| futurrex | Negativo | levantar 5-12.2um Resistencia a la temperatura 250°C | NR77-6000PY |
| futurrex | Negativo | despegue, enchapado, grabado en seco 6-25um 150°C | NR4-8000P |
| futurrex | Negativo | despegue, grabado húmedo, enchapado 2.1-6.3um 150°C | NR9-3000P |
| futurrex | Negativo | levantar 2.1-6.3um 150°C | NR9-3000PY |
| futurrex | Negativo | levantar 6-25um 150°C | NR26-12000PY |
| futurrex | Negativo | levantar 0.7-2.1um 150°C | NR9-1000PY |
| futurrex | Negativo | chapado 20-200um 150°C | NR26-25000P3 |
| futurrex | Negativo | grabado en seco 5.8-100 µm 180°C | NR5-8000 |
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